Il grafene è un parente chimico dei diamanti, del carbone o della grafite dei piombo delle matite. È uno dei materiali più duri e resistenti al mondo. Con un solo strato atomico (meno di un milionesimo di millimetro di spessore), è anche uno dei materiali più sottili dell'universo.

Il che rende il grafene un materiale con un enorme potenziale economico. Questo perché i prodotti a base di grafene potrebbero essere utilizzati in celle solari, display e applicazioni informatiche. I transistor al grafene, ad esempio, sono molto più veloci dei transistor al silicio.

Ciò che attualmente manca, tuttavia, è la possibilità di produrre grafene su larga scala a basso costo. Ma anche questo è stato lavorato con successo per diversi anni. Esistono numerose tecniche di produzione per il grafene. Una variante di produzione promettente è il processo CVD (Chemical Vapor Deposition). Nel processo CVD, una reazione chimica viene generata su una superficie per mezzo di una miscela di gas e temperatura elevata per sintetizzare il grafene e quindi trasferirlo a una varietà di substrati mediante incisione e stampaggio.

I ricercatori hanno ora trovato il catalizzatore ottimale per la produzione di superfici di grafene a crescita di grandi dimensioni. Questo è un film di nichel come substrato, che viene poi successivamente inciso. Ciò che è stato sorprendente per molti, tuttavia, è stata la scoperta della crescita CVD del grafene su un foglio di rame, che mostra un'eccellente omogeneità e un controllo preciso della stratificazione. In questo processo, la crescita del grafene è limitata solo dalle dimensioni della superficie.

L'articolo di ricerca mostra che CVD forma strati di grafene su larga scala e di alta qualità su rame, che potrebbero essere trasferiti su qualsiasi substrato e quindi incisi in qualsiasi forma desiderata. I dettagli possono essere trovati nell'URL della nostra fonte.