टच स्क्रीन, फ्लेक्सिबल डिस्प्ले, प्रिंट करने योग्य इलेक्ट्रॉनिक्स, फोटोवोल्टिक्स या सॉलिड-स्टेट लाइटिंग जैसे नए इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों ने लचीले, पारदर्शी विद्युत कंडक्टरों के बाजार विकास में तेजी से वृद्धि की है। हमारे पाठक पहले से ही जानते हैं कि आईटीओ (इंडियम टिन ऑक्साइड) लंबे समय से एक समाधान बनना बंद कर दिया है। इसके अलावा, आईटीओ विकल्प के रूप में ग्राफीन की मांग हाल के वर्षों में तेजी से बढ़ी है। ग्राफीन के संश्लेषण और लक्षण वर्णन में हालिया प्रगति से पता चलता है कि यह एक पारदर्शी कंडक्टर के रूप में कई इलेक्ट्रॉनिक अनुप्रयोगों के लिए दिलचस्प है।

क्योंकि ग्राफीन इस क्षेत्र में उपयोगी साबित हुआ है, उच्च गुणवत्ता और एक ही समय में सस्ती उत्पादन विधि की अधिक से अधिक स्केलेबल संभावनाओं की तलाश की जा रही है। निम्न तालिका ग्राफीन के लिए आज तक के सबसे महत्वपूर्ण संश्लेषण विधियों को सूचीबद्ध करती है।| संश्लेषण विधि | सिद्धांत | |----|----| | मैकेनिकल एक्सफोलिएशन | चिपकने वाली फिल्म की मदद से, ग्रेफाइट क्रिस्टल की शीर्ष परत को छील लें और इसे एक उपयुक्त वाहक में स्थानांतरित करें। | रासायनिक एक्सफोलिएशन | ग्रेफाइट क्रिस्टल की अलग-अलग परतों के बीच उपयुक्त अभिकर्मकों के अंतःक्रिया द्वारा, अल्ट्रासोनिक उपचार की मदद से समाधान में ग्राफीन फ्लेक्स प्राप्त किए जाते हैं। | ग्राफीन ऑक्साइड की कमी | पानी में ग्रेफाइट ऑक्साइड को ग्राफीन ऑक्साइड में एक्सफोलिएशन, इसके बाद ऑक्सीजन युक्त समूहों को हटाने के लिए रासायनिक कमी | सिलिकॉन कार्बाइड पर एपिटेक्सियल वृद्धि | लगभग 1000 डिग्री सेल्सियस पर एक सिलिकॉन कार्बाइड क्रिस्टल का थर्मल अपघटन। | मिश्रित गैस चरण अलगाव (सीवीडी) | एक धातु समर्थन (क्यू या नी) पर ग्रैफेन मोनोलेयर में गैसीय कार्बन स्रोत (जैसे मीथेन) का उत्प्रेरक अपघटन

वैसे, सीवीडी (रासायनिक वाष्प जमाव) ग्राफीन संश्लेषण के सबसे दिलचस्प तरीकों में से एक है (नीचे तालिका देखें) क्योंकि यह लगभग सही ग्राफीन का उत्पादन करता है।| ग्राफीन सामग्री | इलेक्ट्रर। कारक | पारदर्शिता | |----|----|----| | CVD-G|280 Ω/वर्ग मीटर| 80% | | CVD-G|350 Ω/sq|90% | | CVD-G|700 Ω/sq|80% |इस संश्लेषण विधि के साथ, कम विद्युत प्रतिरोध के साथ परिणामी पारदर्शिता काफी अधिक (80%) थी।