Tohokun yliopiston japanilaiset tutkijat ovat äskettäin havainneet, että pinta-avusteinen kemiallinen reaktio tarjoaa ennennäkemättömän grafeenin nanonauhojen hallinnan tuleville nanolaitteille.

AIMR (Advanced Institute of Materials Research) -tutkimusryhmä, jota johtavat professori Patrick Han ja professori Taro Hitosugi, on löytänyt pohjimmiltaan uuden (alhaalta ylöspäin) valmistusmenetelmän virheettömille grafeenin nanonauhoille (GNR), joissa on jaksolliset siksak-käyrät.

Siksak-nanonauhojen syntetisoimiseksi tutkijat yrittivät selvittää, voisiko reaktiivinen kuparipinta ohjata molekyylipolymerointireaktiota. Professori Hanin mukaan molekyylien tulisi olla vähemmän vapaita pinnoilla, kuten kuparilla, kuin käytettäessä kulta- tai hopeasubstraatteja. Ne diffundoituvat satunnaisesti ja ovat todennäköisemmin vuorovaikutuksessa metalliatomien järjestetyn hilan kanssa.



Lisätietoja mielenkiintoisista tutkimustuloksista löytyy yliopiston tiedotteesta osoitteesta.