El grafeno es el nuevo material maravilloso para la electrónica flexible de gran área. Particularmente duro y resistente, ya que es un pariente químico de los diamantes, el carbón o el grafito de los cables de lápiz, solo que mejor, porque conduce la electricidad y el calor extremadamente bien y es extremadamente flexible. Además, con una sola capa atómica, es uno de los materiales más delgados del universo, de menos de una millonésima de milímetro de espesor. Y, por lo tanto, adecuado para numerosas aplicaciones posibles.
Proceso de deposición química de vapor (CVD)
Sin embargo, a menudo todavía hay una falta de procesos de fabricación probados para esta aplicación. Sin embargo, ya existen varios métodos para la síntesis a gran escala de grafeno. La deposición química de vapor ha demostrado ser prometedora. El material de partida, el gas carbonoso (los llamados precursores), se pasa sobre un sustrato y se descompone químicamente, por lo que el grafeno se deposita como una película de estado sólido, es decir, se forma una nueva capa.
Los llamados precursores suelen desmontarse térmicamente. Calentando el sustrato. Sin embargo, esto lleva a la restricción de que debe ser un sustrato que pueda soportar la carga de calor. Sin embargo, ahora existen diferentes variantes del procedimiento de ECV para reducir estos efectos negativos.
Métodos comunes de ECV
Aquí hay una breve descripción de los métodos comunes de ECV.
- APCVD: Presión atmosférica CVD. Aquí, la temperatura de trabajo típica es de 400-1300 ° C
- LPCVD: CVD de baja presión. Aquí, la temperatura de trabajo típica es de 500-1000 ° C
- PECVD: ECV mejorada por plasma. Aquí, la temperatura de trabajo típica es de 200-500 ° C
- ALD: Deposición de capa atómica. Un proceso cíclico que facilita la consecución de un espesor de capa exacto debido a los diferentes ciclos.
- Procedimiento HFCVD. Aquí, la temperatura de trabajo típica es de 150–1100 °C
La deposición química de vapor (CVD) sigue siendo la forma más efectiva de producir grafeno. Aún así, no es 100 por ciento óptimo. Por lo tanto, se siguen desarrollando varios métodos CVD para mejorar el proceso y permitir una producción fiable a gran escala.
